科研級(jí)CMOS檢測(cè)器，全元素分析，開創(chuàng)PPM級(jí)元素分析新紀(jì)元

噪聲低 科研級(jí)感光元件噪聲小，抗干擾強(qiáng)，具備防光暈技術(shù)

抗干擾 CMOS探測(cè)器集成度高，可避免外部電路引入噪聲

讀取速度快 采用OEO（Optimal Element-Oriented）技術(shù)，像素信號(hào)單獨(dú)讀取，實(shí)現(xiàn)參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì)

紫外響應(yīng)高 優(yōu)異的紫外響應(yīng)靈敏度，無(wú)需鍍膜，實(shí)現(xiàn)非金屬元素（N,C,S,P）分析，效果更優(yōu)

經(jīng)典雙光室設(shè)計(jì)，光譜范圍寬，元素分辨率有保證

獨(dú)立設(shè)計(jì)的紫外光學(xué)系統(tǒng)，激發(fā)臺(tái)直接采光，專為N，C，S，P等紫外元素測(cè)量設(shè)計(jì)，刻線數(shù)多，分辨率高，兼顧高分辨和譜線范圍優(yōu)勢(shì)，譜線范圍寬，分析元素多，性能好

單獨(dú)設(shè)計(jì)的紫外光學(xué)系統(tǒng)，體積小，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，采用多孔吹掃技術(shù)，可將空氣迅速吹掃干凈，確保元素分析效果

穩(wěn)定性升級(jí)，重新定義光學(xué)產(chǎn)品穩(wěn)定性

壓鑄鋁合金整體光室，4級(jí)消除應(yīng)力處理

光室恒溫設(shè)計(jì)，保證光譜位置長(zhǎng)期穩(wěn)定，不漂移

氣流路的精確設(shè)計(jì)，一切為了結(jié)果更穩(wěn)定

RTMC光譜優(yōu)化技術(shù)，帶來(lái)更穩(wěn)定的體驗(yàn)

全數(shù)字脈沖光源，自動(dòng)選擇能量保證分析的準(zhǔn)確性與重復(fù)性

易用性升級(jí)，給用戶更簡(jiǎn)單、高效的使用體驗(yàn)

優(yōu)質(zhì)硬件與特定算法的結(jié)合，多重穩(wěn)定保障，更優(yōu)地監(jiān)控儀器運(yùn)行狀態(tài)，提升分析效果，減少校準(zhǔn)頻率

支持全譜分析檢測(cè)，拓展性更高。增加分析基體和元素?zé)o需增加硬件，通過(guò)軟件即可擴(kuò)展分析范圍，使用更靈活

智能曲線功能可滿足對(duì)材料的分析需求，真正實(shí)現(xiàn)未知樣品分析，無(wú)需糾結(jié)模型選擇，操作更加簡(jiǎn)便

友好的人機(jī)交互設(shè)計(jì)，軟件主界面簡(jiǎn)潔清晰，圖形化顯示，短時(shí)間即可學(xué)會(huì)并熟練操作軟件

新增遠(yuǎn)程維護(hù)功能，可遠(yuǎn)程升級(jí)固件程序，遠(yuǎn)程檢查儀器狀態(tài)，對(duì)儀器生命周期健康負(fù)責(zé)

應(yīng)用領(lǐng)域

應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械加工、鑄造、金屬材料科研、航空航天、造船、汽車、海關(guān)檢驗(yàn)、第三方檢測(cè)等諸多領(lǐng)域。